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场发射扫描电子显微镜
- 制造厂商：日本日立株式会社
- 购置日期：2010-09-07
- 型号：S-4800
- 生产国别：
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- 功能/应用范围： 主要利用电子束与试样表面的相互作用产生的信息来观测固体表面形貌，还能获得晶体方位、化学成分、磁结构、电位分布及晶体振动方面的信息、研究试样的各种特性。广泛应用于材料、电子、半导体、生物、冶金等各个领域。
- 主要附件： 仪器配置半导体背散射电子检测器及X-射线能谱仪(Bruker QUANTAX 400-30)。
- 主要技术指标： 二次电子像分辨率：1.0nm（15KV, WD=4mm）,
1.4nm（1KV, WD=1.5mm, 减速模式）
2.0nm（1KV,WD=1.5mm, 普通模式）
放大倍率： 20～2000×（低倍模式），100～800000×（高倍模式）
电子光学系统：电子枪： 冷阴极场发射电子源
束流：1pA～2nA
加速电压：0.5～30KV（0.1KV/步，普通模式）
0.1～2.0KV（减速模式）
样品台：五轴马达驱动
行程：X=0-50mm； Y=0-50mm；Z=1.5-30mm
- 技术特色： 管理人员具有丰富的电子显微管理与应用经验，熟悉各类材料的电子显微分析。
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