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等离子增强化学气相沉积系统
- 制造厂商：Oxford
- 购置日期：2014-01-20
- 型号：ICP180
- 生产国别：英国
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- 功能/应用范围： 介质薄膜沉积，包括SiO2、Si3N4、SiC、SiON、BSG、PSG、BPSG等
- 主要技术指标： 1.气体种类：SiH4、NH3、N2O、CH4、CF4、PH3、B2H6等
Gas: SiH4、NH3、N2O、CH4、CF4、PH3、B2H6
2.射频电源 上电极：13.56MHz，300W
下电极：50kHz-460kHz，500W
RF Generator Top electrode: 13.56MHz, 300W
RF Bias: 50kHz-460kHz, 500W
3.工艺温度：最高到 400℃
Process temperature: top to 400℃
4.传送模式：自动Loadlock传送系统
Wafer transfer: Automatic loadlock transfer system
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