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场发射电子束/聚焦离子束双束工作站
- 制造厂商：ZEISS
- 购置日期：2015-12-16
- 型号：ZEISS Auriga SEM/FIB Crossbeam System
- 生产国别：德国
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- 功能/应用范围： 双束系统中场发射扫描电镜主要用于观察、分析和记录材料的微观形貌，聚焦离子束用来对样品进行在微纳米尺度下的图形沉积、切割、刻蚀、透射样品制备及原子探针针尖加工等工作
- 主要技术指标： 1.分辨率：≤1.0nm@15V，≤1.9nm@1KV
Resolution: ≤1.0nm@15V，≤1.9nm@1KV
2.加速电压：0.1KV-30KV
Acceleration voltage: 0.1KV-30KV
3.电子枪:热场发射电子枪
Election gun: thermal field emission type
离子束：Ion Beam:
1.离子源种类：液态Ga离子源
Ion source type: liquid Ga+ source
2.分辨率：≤2.5nm@30kV
Resolution: ≤2.5nm@30kV
3.加速电压：1kV-30kV
Acceleration voltage: 1kV-30KV
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