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上海交通大学交大

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微电铸分析测试系统

  • 制造厂商:*
  • 购置日期:2004-12-24
  • 型号:*
  • 生产国别:德国
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仪器详情
  • 功能/应用范围: 用于1~300mm镍或FeNi薄膜电镀
  • 主要技术指标: 1.镀膜速率:0.1~2mm/min可调 Plating rate: 0.1~2mm/min (adjustable) 2.基片尺寸:4英寸及以下 Substrate size: 4” and below 3.自动调节pH值,补水 Automatically adjust pH and supply water 4.流速: .5-2l/min ,搅拌 温度:20-70℃ 可控,精度0.1℃ Liquid flow rate: .5-2l/min with stirring Liquid temperature: 20-70℃ adjustable (accuracy:0.1℃)