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卧式低压化学气相沉积炉管系统
- 制造厂商：SVCS
- 购置日期：2014-01-17
- 型号：LH2
- 生产国别：捷克
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- 功能/应用范围： 用于沉积高品质的n型掺杂或非掺杂的多晶硅或非晶硅；用于沉积高品质的低应力氮化硅或氮氧化硅
- 主要技术指标： 1.炉管1：N型多晶硅以及非晶硅薄膜沉积工艺 (LPCVD Poly)
气体：高纯N2、SiH4、PH3
Tube 1：n type doped poly and amorphous silicon film deposition process.
Process gas: PN2, SiH4, PH3
2.炉管2：低应力氮化硅，氮氧化硅薄膜(LPCVD Nitride)
气体：高纯N2、NH3、N2O、SiH2Cl2
Tube 2：low stress Si3N4 and SiON film
Process gas: PN2, NH3, N2O, SiH2Cl2
3.温度：700-900 °C
4.Temperature 700-900 °C
5.硅片尺寸：3英寸、4英寸、6英寸圆片；50片/炉
Silicon wafer: 3”,4”,6” wafer；50wafers/batch
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