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等离子增强型化学气相沉积系统
- 制造厂商：英国Oxford（牛津）仪器公司
- 购置日期：2006-04-30
- 型号：Plasmalab Systerm 100
- 生产国别：
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- 功能/应用范围： 用于氮化硅、氧化硅、PSG、α？D硅薄膜生长
- 主要附件： 真空泵
- 主要技术指标： 氮化硅沉积速率>10mm/min 均匀性<±2%
氧化硅沉积速率>40mm/min 均匀性<±2%
PSG增长速率>230mm/min 均匀性<±3%
α？D硅沉积速率>25mm/min 均匀性<±2.5%
- 技术特色： 用于氮化硅、氧化硅、PSG、α？D硅薄膜生长
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